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  • GMD2000光刻胶去除剂高剪切华体会登陆注册

    光刻胶去除剂高剪切华体会登陆注册新的结构设计,将胶体磨和华体会登陆注册一体化的设备,胶体磨磨头+分散盘定转子,先研磨后分散效果更佳。

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  • GMD2000蠕虫膨胀石墨高剪切华体会登陆注册

    蠕虫膨胀石墨高剪切华体会登陆注册利用剪切力、摩擦力或冲击力将粉体由大颗粒粉碎剥离成小颗粒。分散:纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住,以便达到颗粒*被分离、润湿、分布均匀及稳定目的。

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  • GMD2000石墨烯涂层浆料高剪切华体会登陆注册

    石墨烯涂层浆料高剪切华体会登陆注册的线速度达21M/S,由3级可调间隙的锥形定子和4级高速旋转的锥形转子形成研磨模块,根据生产要求,剪切研磨间隙可从0.01mm至2mm无级调速,定转子每一级上的凹槽一级比一级精细,深度,方向的不同增加了流体的揣流。

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  • GMD2000纳米氧化镁均质华体会登陆注册

    纳米氧化镁均质华体会登陆注册可在实验室模拟在线工况进行循环或在线连续处理,具有高效均质无分散死角等特点。

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  • GMD2000蛋白质高速华体会登陆注册

    蛋白质高速华体会登陆注册可在实验室高速马达,可选配不锈钢带夹套工作腔或玻璃工作腔。*的定转子结构,产生*的剪切力,迅速减小液滴尺寸,处理物料更精细、更均匀。

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  • GMD2000橡胶抗氧剂高速乳化华体会登陆注册

    橡胶抗氧剂高速乳化华体会登陆注册机配合橡胶抗氧剂的生产:将原始粒径15-30nm的抗氧剂颗粒倒入一定配比的去离子水中,加入表面活性剂和组分A,搅拌10min至物料全部均匀无大的团聚颗粒,将配好的液体倒入华体会登陆注册中,打4-6遍,即可得到D50粒径约300nm的均匀水性抗氧剂。

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  • GRS2000磷酸氢钙高剪切华体会登陆注册

    磷酸氢钙高剪切华体会登陆注册采用*设计,便于清洗,对表面进行高质量处理,防止其对食品医药产生不利影响,该设备还符合CIP和SIP的清洁标准,能更好的实现在线清洗,提高工作效率,确保产品安全。

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  • GMD2000药用辅料硬脂酸盐研磨华体会登陆注册

    药用辅料硬脂酸盐研磨华体会登陆注册透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、均质和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

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