真空均质乳化机的基本结构

真空均质乳化机的基本结构
本设备是专门针对化妆品及制药行业生产小批量产品，机经常生产多种产品而设计；是美容行业机型，其大特点为：下置均质机，可加大功率。到年度的物料特别有效。主锅盖能自由升降，能*清洗锅体，可倾式出料，能保证出料，减少浪费，是中小型企业的选择。适应于大容积生产的产品。

性能及特点：
◆复合刮板搅拌桨，适合各种复杂配方，达到优化能效；
◆聚四氟乙烯刮板，随时迎合搅拌槽之形体，刮净锅壁粘料；

◆均质机安装在锅底部，可加大电动机功率，更*，更有力。在少量生产时，亦可充分发挥均质效果；

◆强力平衡式等规曲线的转子配以相应结构的定子，实现流体高能剪切、研磨、离心、从而保证膏体细腻、光滑；锅体及管道表面镜面抛光300EMSH（卫生级），符合日化及GMP规范。

◆客户可选择变频调速均质机，转速达4500转/分钟。

优点

机组采用上部同轴三重型搅拌器，液压升降开盖，快速均质搅拌器转速：0—3500r/min（变频调速）、慢速刮壁搅拌器转速：0—63r/min（变频调速）、均质器采用高剪切涡流式乳化搅拌机，慢速刮壁搅拌自动紧贴锅底及锅壁。采用真空吸料，特别对粉体物料利用真空吸入避免粉尘飞扬。整个工序在真空条件下进行，防止物料在高速搅拌后产生气泡，能达到卫生无菌要求。本系统配有CIP清洗系统、容器与物料接触部分采用SUS316L材料制造、内表面镜面抛光300EMSH(卫生级）为了确保控制部分的稳定、真空泵采用纳西姆（原西门子）公司产品、按钮采用日本富士公司产品、变频器采用日本松下电工、电器控制部分采用西门子公司产品。本机组*符合GMP要求制造，是目前*、理想的膏、霜生产设备。

真空均质乳化机的基本结构